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上海临港艾为电子生产研发大楼和总部大厦

项目位置 : 上海
项目规模:166,710 平方米
设计时间:2021 年
设计灵感主要来源于艾为电子以芯片为核心领域的高科技,高精密的企业性质,以及艾为节能环保、以人为本的思想。
C 地块建筑造型没有花哨的外立面,纯净的玻璃使得建筑与景观的隔阂消融,单一空间打破屏障,在建筑主入口便能看到临港海水的柔美。A 地块三个单体,公寓、仓库、厂房,不是独立的存在,他们由一种“芯”的力量将其融合在一起。立面自然形成计算机语言 01 代码,高透玻璃和微晶石的组合,使得夜间灯光的变化自然形成了代码的跳动,垂直绿化的点缀,将建筑融入自然。
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